「22ナノ」と「3Dトライゲート」が僕たちを幸せにする理由

3Dトライゲートトランジスタ技術を導入した22ナノメートルプロセスルールは、オレゴンのD1D、D1Cをはじめ、5つの生産拠点で製造する（写真＝左）。インテルと競合他社のCPU開発におけるロードマップを比べると、プロセスルールの微細化だけでなく、3Dトライゲートトランジスタ技術といった最先端技術の採用において、インテルは3〜4年のリードを保っている（写真＝中央）。22ナノメートルプロセスルールに3Dトライゲートトランジスタ技術を採用することでもたらされる製品セグメントごとのメリット（写真＝右）