45ナノメートル以降のプロセス技術をひもとく──マーク・ボーア氏基調講演

次世代の32ナノまでは現在の露光装置による波長幅193ナノが利用され、より微細化した製造プロセスではEUV露光システムが導入される予定だ（写真＝左）。トライゲートトランジスタの模式図（写真＝中央）。製造プロセスのロードマップ（写真＝右）