Intelが45ナノ「Penryn」ダイ画像を公開 45ナノプロセストランジスタの断面。上から低抵抗のキャップ層、メタルゲート電極、High-kゲート電極、シリコンサブストレート 記事に戻る SpecialPR 元麻布春男,ITmedia