プラズマ処理なしで酸化アルミニウム薄膜のウエハー接合に成功

ALD-Al2O3自己活性化接合のウエハースケール品質と加工耐性。（a）プラズマレスで進展するボンドウェーブ、（b）ボイドフリー接合、（c）原子レベルで一体化した界面、（d）10μmまでの薄化に耐える高強度、高均一接合［クリックで拡大］ 出所：横浜国立大学