王子HD、PFASフリーの次世代半導体レジストで幅10nm直線パターン形成

High-NA EUVリソグラフィ評価によるパターン画像。※エッチング加工にも成功し、実際の製造工程への適用可能性を確認［クリックで拡大］ 出所：王子ホールディングス