ハロゲンフリーで酸化ハフニウムの異方性原子層エッチングに成功

酸化ハフニウムのALEプロセス処理の膜厚変化と表面反応モデル。中央のグラフは、エッジプロセス時間（横軸）経過に伴う膜厚（縦軸）の変化［クリックで拡大］ 出所：名古屋大学