MLCC強誘電体界面の電荷分布直接観察に成功 理解と性能向上を加速 図3 tDPC法による電場像と電場強度のラインプロファイル。(a):HH界面のtDPC電場像、(b):αからβ方向へのラインプロファイル、(c):(b)の電場プロファイルを電荷密度分布に変換したプロファイル、(d):TT界面のtDPC電場像、(e):αからβ方向へのラインプロファイル、(f):(e)の電場プロファイルを電荷密度分布に変換したプロファイル[クリックで拡大] 出所:JST 記事に戻る 遠藤和宏,MONOist