半導体技術の変革に対応、モリブデンの成膜や新たなプラズマ制御のエッチング装置 モリブデンベースの原子層堆積(ALD)装置「ALTUS Halo」[クリックで拡大]出所:ラムリサーチ 記事に戻る 長沢正博,MONOist