EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2nm世代以降の微細なパターンの解像に成功 EUVリソグラフィ用フォトマスク上の線幅17nmのライン&スペースのパターン画像[クリックで拡大] 出所:DNP 記事に戻る 遠藤和宏,MONOist