CFB技術と局所シールド技術で薄膜アナログICの3次元集積に成功 クロストーク発生のメカニズムとクロストーク発生時の特性影響[クリックで拡大] 出所:OKI、日清紡マイクロデバイス 記事に戻る 遠藤和宏,MONOist