富士フイルムが200億円をかけ国内拠点で半導体材料向け設備を増強
静岡拠点(左)と大分拠点(右)の新棟のイメージ図[クリックで拡大] 出所:富士フイルム
記事に戻る
遠藤和宏,MONOist