10nm以下の線幅で半導体微細加工ができる高分子ブロック共重合体を開発

誘導自己組織化の模式図と化学パターンの有無により得られる構造の違いを示した原子間力顕微鏡位相像［クリックで拡大］ 出所：東京工業大学