DNPが2nm世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を本格的に開始 フォトマスクの保護フィルムであるペリクル付きEUVリソグラフィ向けフォトマスクのイメージ図[クリックで拡大] 出所:DNP 記事に戻る 遠藤和宏,MONOist