巨大な半導体製造装置が目の前に? キヤノンが最新機を実寸大で紹介 ナノインプリント半導体製造装置用のマスク(左)と、FPA-1200NZ2Cでパターン形成したウエハー(右)[クリックで拡大] 記事に戻る 長沢正博,MONOist