2nm以降世代に向けた半導体プロジェクトが始動、かつての国プロとの違いとは

前工程プロジェクトの開発テーマ。「リソグラフィ」「シリコンナノシート形成」（左）と「High-k／メタルゲートスタック形成」「ナノシートトランジスタプロセスインテグレーション」（右）［クリックで拡大］ 出所：AIST