2nm以降世代に向けた半導体プロジェクトが始動、かつての国プロとの違いとは 前工程プロジェクトの開発テーマ。「リソグラフィ」「シリコンナノシート形成」(左)と「High-k/メタルゲートスタック形成」「ナノシートトランジスタプロセスインテグレーション」(右)[クリックで拡大] 出所:AIST 記事に戻る 朴尚洙,MONOist