進化を続ける「はんだ」、次世代パワー半導体やカメラモジュールの実装に対応

最短25秒タクトで製造可能なインライン方式の真空リフロー装置「RNV12M-512RLF」 (クリックで拡大)

最短25秒タクトで製造可能なインライン方式の真空リフロー装置「RNV12M-512RLF」 (クリックで拡大)