硬いシリコンを「曲げ伸ばし」でテラヘルツ波を制御 シリコン基板の伸長による有効屈折率の変化。左側上下図は伸長方向に垂直な偏光。右側上下図は伸長方向に平行な偏光に対する結果[クリックで拡大] 出所:東北大学他 記事に戻る 馬本隆綱,EE Times Japan