He・ナフサ・レジスト逼迫の続報――半導体工場停止が回避できている理由

図6　GAAのナノシート形成に精密な温度制御が必要な工程が多数存在［クリックで拡大］ 出所：Adapted and annotated by Takashi Yunogami based on IBM Research nanosheet GAA process flow (IEDM 2019-2021)に筆者加筆