He・ナフサ・レジスト逼迫の続報――半導体工場停止が回避できている理由

図3　ドライエッチング装置における温度制御の原理［クリックで拡大］ 出所：野尻一男（Nanotech Research）　『はじめての半導体ドライエッチング技術』（技術評論社）、90ページの図4-16