超WBG半導体基板の大口径化へ道筋、東北大 冷却速度を変えて、針状AlN種結晶上に溶液成長法でエピタキシャル成長させた後のSEM像[クリックで拡大] 出所:東北大学 記事に戻る 馬本隆綱,EE Times Japan