ナフサ危機で迫る「レジスト供給途絶」――世界の半導体工場を停止させる、もう一つの臨界点 図3 実用化されているPAGの対アニオン(発生する酸)の主要な物質のPFAS依存性[クリックで拡大] 記事に戻る 湯之上隆(微細加工研究所),EE Times Japan