EUV露光に残された課題――ペリクルの現在地と展望とは

図4：ASMLにおけるEUVペリクルのRoadmap［クリックで拡大］ 出所：Anthony Yen (ASML), “EUV Lithography Overview and Outlook”, 次世代リソグラフィ研究会（2024年7月4日）のスライド