EUV露光に残された課題――ペリクルの現在地と展望とは 図3:EUVペリクルとDynamic Gas Lock(DGL)の役割[クリックで拡大] 出所:Mark van de Kerkhof, et al (ASML)., “High-transmission EUV pellicles supporting >400W source power”, Proc. of SPIE Vol. 12051 120510B-1 の図にに筆者加筆 記事に戻る 湯之上隆(微細加工研究所),EE Times Japan