富士フイルムが後工程材料に攻勢 「PFASフリー」レジストを発表 パッケージ構造の変化(左)と層間絶縁膜フィルムの概要[クリックで拡大] 出所:富士フイルム 記事に戻る 村尾麻悠子,EE Times Japan