最大の壁、p層を克服！酸化ガリウムでFLOSFIAが達成した「世界初」

開発中のトレンチゲート型MOSFETの断面模式図（左）と試作したトレンチゲート部分の電子顕微鏡写真（右）［クリックで拡大］ 出所：FLOSFIA