EUV用フォトマスク上で2nm以降の微細パターン解像に成功、DNP EUVリソグラフィ用フォトマスク上の線幅17nmのLine&Spaceパターン画像[クリックで拡大] 出所:大日本印刷 記事に戻る 永山準,EE Times Japan