TSV/RDL受託開発で「次のNVIDIA」登場を加速 コネクテックジャパン 左=TSV/RDLの技術的な課題/右=TSV/RDLの断面構造の比較。コネクテックジャパンは、RDL4層、TSV直径1μmを目指す[クリックで拡大] 出所:コネクテックジャパン 記事に戻る 村尾麻悠子,EE Times Japan