「斜めからのイオン注入」で損失低減 三菱電機のxEV用SiC-MOSFET xEV用SiC-MOSFETを製造したウエハーと素子のイメージ[クリックで拡大] 出所:三菱電機 記事に戻る 馬本隆綱,EE Times Japan