半導体製造の露光工程における検査時間を大幅短縮 Laser-PEEMによる潜像観察技術を活用することで可能となる新たなリソグラフィ技術開発プロセス[クリックで拡大] 出所:東京大学 記事に戻る 馬本隆綱,EE Times Japan