線幅7.6nmの半導体微細加工が可能 高分子ブロック共重合体 誘導自己組織化の模式図と化学パターンの有無により得られる構造の違いを示したAFM位相像[クリックで拡大] 出所:東京工業大学他 記事に戻る 馬本隆綱,EE Times Japan