キヤノン、NIL技術を用いた半導体製造装置を発売 左は工場内に設置されたFPA-1200NZ2C、右はNILで形成した三次元立体微細構造の光学素子[クリックで拡大] 出所:キヤノン 記事に戻る 馬本隆綱,EE Times Japan