Intelがガラス基板を本格採用へ、2020年代後半から ガラス基板パッケージの試作品の詳細。中央の写真(テストチップの断面の電子顕微鏡写真)には、3層のRDL(再配線層)と、ピッチが75μmでアスペクト比が20:1のTSV(Through Glass Via)が示されている[クリックで拡大] 出所:Intel 記事に戻る 村尾麻悠子,EE Times Japan