3Mが2025年末までにPFAS製造を停止、世界の半導体製造はどうなるのか 図1:ドライエッチング装置における温度制御の原理[クリックで拡大] 出所:野尻一男(Nanotech Research)『はじめての半導体ドライエッチング技術』(技術評論社)、90ページの図4-16 記事に戻る 湯之上隆(微細加工研究所),EE Times Japan