半導体の微細化は2035年まで続く 〜先端ロジックのトランジスタと配線の行方 図13:ムーアの法則は2040年まで続く[クリックで拡大] 出所:Michael Lercel (ASML), “Lithography and Patterning for 3nm node and beyond”, SemiconWest 2022.のスライドに筆者加筆(「System Energy Efficiency Performance」の部分。赤い表の陰になり見えなかったため) 記事に戻る 湯之上隆(微細加工研究所),EE Times Japan