日本への投資を強化するTSMC、大阪にも研究開発拠点 「FINFLEX」のイメージ。前世代プロセスの「N5」では、FinFETの種類は選択できなかったが、N3/N3Eでは3種類から選べるようになっている[クリックで拡大] 出所:TSMC 記事に戻る 村尾麻悠子,EE Times Japan