Samsung、GAAを適用した3nmプロセスの生産を開始 トランジスタ構造の進化。プレーナ型FETからFinFET、ナノワイヤを使うGAA FET、ナノシートを使うGAA FETと進化するにつれて、性能と電力効率が向上することを示している[クリックで拡大] 出所:Samsung Electronics 記事に戻る 村尾麻悠子,EE Times Japan