界面の魅力と日本半導体産業の未来 〜学生諸君、設計者を目指せ！

図5：トランジスタのチャネル膜厚と移動度の関係［クリックで拡大］ 出所：高木信一（東京大学）,“先端ロジックCMOS のためのチャネル材料・デバイス技術“のスライド、2022年、電子デバイス界面テクノロジー研究会、招待講演