東京工大、溶液法で高性能のpチャネルTFTを開発

薄膜作製時のSnF2添加剤依存性。左は2／3次元ペロブスカイト薄膜構造比較、中央と右はTFT特性の比較［クリックで拡大］ 出所：東京工業大学