10年で5世代の進化を遂げた高性能パッケージング技術「CoWoS」(前編)

「CoWoS_S」(従来の「CoWoS」)の断面構造例。いわゆる2.5次元(2.5D)パッケージの代表である。中間基板(インターポーザ)であるシリコン基板に高密度な配線とシリコン貫通ビア(TSV)を形成することで、シリコンダイ間の近接配置を可能にするとともに、高速の信号を伝送する[クリックで拡大] 出所:TSMC(Hot Chips 33の講演「TSMC packaging technologies for chiplets and 3D」のスライドから)

「CoWoS_S」(従来の「CoWoS」)の断面構造例。いわゆる2.5次元(2.5D)パッケージの代表である。中間基板(インターポーザ)であるシリコン基板に高密度な配線とシリコン貫通ビア(TSV)を形成することで、シリコンダイ間の近接配置を可能にするとともに、高速の信号を伝送する[クリックで拡大] 出所:TSMC(Hot Chips 33の講演「TSMC packaging technologies for chiplets and 3D」のスライドから)