「システム・製造協調最適化（STCO）」の実現技術（前編）

3nm以降のCMOSロジックを構成する階層と新たな要素技術群。新たな要素技術群は製造に時間がかかるとともに、相互に影響し合う［クリックで拡大］ 出所：imec（IEDM2020のチュートリアル講演「Innovative technology elements to enable CMOS scaling in 3nm and beyond - device architectures, parasitics and materials」の配布資料）