10nm以下の極短チャンネルを目指す2次元(2D)材料のトランジスタ

2次元材料の二流化タングステン(WS2)をフォークシート構造のナノシートに適用したFETの構造と高周波特性をシリコンのナノシート構造FETと比較した。左はフォークシート構造の概念図。右は動作周波数(横軸)と動作時消費電力(縦軸)の関係。出典:imec(IEDM2020のチュートリアル講演「Innovative technology elements to enable CMOS scaling in 3nm and beyond - device architectures, parasitics and materials」の配布資料) (クリックで拡大)

2次元材料の二流化タングステン(WS2)をフォークシート構造のナノシートに適用したFETの構造と高周波特性をシリコンのナノシート構造FETと比較した。左はフォークシート構造の概念図。右は動作周波数(横軸)と動作時消費電力(縦軸)の関係。出典:imec(IEDM2020のチュートリアル講演「Innovative technology elements to enable CMOS scaling in 3nm and beyond - device architectures, parasitics and materials」の配布資料) (クリックで拡大)