次々世代のトランジスタ「モノリシックCFET」の製造プロセス モノリシック(Monolithic)CFETの製造工程(一部のみ)。出典:imec(IEDM2020のチュートリアル講演「Innovative technology elements to enable CMOS scaling in 3nm and beyond - device architectures, parasitics and materials」の配布資料) (クリックで拡大) 記事に戻る 福田昭,EE Times Japan