次々世代のトランジスタ「モノリシックCFET」の製造プロセス

モノリシック（Monolithic）CFETの製造工程（一部のみ）。出典：imec（IEDM2020のチュートリアル講演「Innovative technology elements to enable CMOS scaling in 3nm and beyond - device architectures, parasitics and materials」の配布資料） （クリックで拡大）