次々世代のトランジスタ「モノリシックCFET」の製造プロセス

「モノリシック（Monolithic）CFET」（左）と「シーケンシャル（Sequential）CFET」（右）の概要。出典：imec（IEDM2020のチュートリアル講演「Innovative technology elements to enable CMOS scaling in 3nm and beyond - device architectures, parasitics and materials」の配布資料） （クリックで拡大）