コンプリメンタリFET(CFET)でCMOS基本セルの高さを半分に減らす 5nm世代以降のトランジスタ技術(断面構造図)のオプション。上の3つはFinFET、下は左からナノシートFET、フォークシートFET、CFETである。出典:imecが2019年12月に国際学会IEDMで発表した論文「Enabling Sub-5nm CMOS Technology Scaling Thinner and Taller!」(論文番号29.4)から(クリックで拡大) 記事に戻る 福田昭,EE Times Japan