フォークシート構造のCMOSロジック製造プロセス

試作したフォークシート構造の断面を観察した画像。左は透過型電子顕微鏡による観察画像。右はエネルギー分散型蛍光X線分光装置（EDS：Energy Dispersive X-ray Spectrometer）によるマッピング画像。出典：imec（IEDM2020のチュートリアル講演「Innovative technology elements to enable CMOS scaling in 3nm and beyond - device architectures, parasitics and materials」の配布資料） （クリックで拡大）