フィンFET(FinFET)の次に来るトランジスタ技術 FinFETを利用したCMOS基本セル(スタンダードセル)のスケーリングとその課題。出典:imec(IEDM2020のチュートリアル講演「Innovative technology elements to enable CMOS scaling in 3nm and beyond - device architectures, parasitics and materials」の配布資料) (クリックで拡大) 記事に戻る 福田昭,EE Times Japan