産総研、SiCモノリシックパワーICの開発に成功

上図は開発したモノリシックパワーICの断面模式図、下図はエピ埋め込みチャネルの効果と耐電圧特性 (クリックで拡大) 出典:産総研

上図は開発したモノリシックパワーICの断面模式図、下図はエピ埋め込みチャネルの効果と耐電圧特性 (クリックで拡大) 出典:産総研