原子層エッチングがEUVの確率変動を低減 図5:Lam Researchは標準的な有機EUVフォトレジストで脱離・改質段階における材料の除去が少ない、シナジーが85%を超えるシステムを開発した 記事に戻る Rich Wise(Lam Research),EE Times Japan