SiCウエハー製造技術、産学官が連携して共同研究 左図は次世代パワー半導体用SiCウエハー製造技術開発に向けた共同研究の構成、右図は連携開発のコンセプト (クリックで拡大) 出典:産総研 記事に戻る 馬本隆綱,EE Times Japan